【亚博官网买球】科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请

本文摘要:据科学技术部称,物理气相沉积(PVD)是生产半导体芯片和薄膜晶体管液晶显示器的最关键工艺之一。

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据科学技术部称,物理气相沉积(PVD)是生产半导体芯片和薄膜晶体管液晶显示器的最关键工艺之一。PVD用喷发金属靶是生产半导体芯片和TFT-LCD最重要的原材料之一,其用量仅次于超高铝和超高洁净铝合金靶。因此,开发具有自主知识产权的大尺寸超高铝显示靶材生产的关键技术,开发满足半导体行业和TFT-LCD行业市场需求的超高铝显示靶材产品,对我国相关行业的发展具有重要意义。

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科技部发布《国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“大尺寸超高显铝靶材的生产技术”重点项目申请人指南》号公告,旨在公平公开地自由选择项目共享单位,充分调动企业、科研院所和高等院校参与的积极性,在铝精炼及制备、大型铝板应力加工、喷发材料金属靶专业制造等领域打造国家R&D优势力量。

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